서울중앙지법 청사.＠출처=연합뉴스

[뉴스임팩트=이상우기자] 반도체 기술을 빼돌린 혐의를 받는 전 삼성전자 연구원이 1심에서 유죄 판결을 받았다.

서울중앙지법 형사합의23부(오세용 부장판사)는 21일 피고인 이 모 씨의 산업기술보호법 위반 혐의에 대해 징역 3년, 집행 유예 4년, 벌금 2000만원, 사회봉사 240시간을 선고했다.

이 씨는 전직 삼성전자 수석연구원이다. 1998년 삼성전자에 입사해 24년간 재직했다. 미국 캘리포니아주 산호세에 있는 삼성전자 반도체 미주 법인(DSA)에서도 일했다. 2021년 미국 영주권을 얻었다.

검찰은 지난해 8월 이 씨를 재판에 넘겼다. 그가 2022년 2~6월 애플, 메타 계열사, 구글, 테슬라, SK하이닉스 미주 법인을 대상으로 구직 활동을 하는 과정에서 D램 반도체 적층 조립 기술, 사업화 전략 자료를 포함한 삼성전자 영업비밀 120건과 국가 핵심 기술 13건을 유출했다는 이유에서다.

반도체 적층 조립 기술은 단일 칩을 기판에 장착하는 기존 방식을 벗어나 여러 칩을 쌓아 올려 크기 축소와 성능 향상을 함께 달성하는 기술이다. 국가 핵심 기술은 국내외 시장에서 차지하는 기술적, 경제적 가치가 크거나 관련 산업의 성장 잠재력이 높아 해외 유출 시 국가 안전 보장과 국민 경제 발전에 중대한 악영향을 줄 우려가 있는 산업 기술이다.

재판부는 피고인의 혐의를 인정한다고 했다. 먼저 재판부는 "피고인이 유출한 자료는 기술적, 경제적 가치가 매우 크다. 외국 회사에 자료가 넘어갔으면 반도체 산업 비중이 높은 국내 경제는 물론 국가 안보까지 악영향이 미친다"고 했다.

다음으로 재판부는 "피고인은 2022년 6월 15일과 21일 집중적으로 자료를 유출했다. 이 시기 피고인은 삼성전자 해외 경쟁사 마이크론으로의 이직을 고민하고 있었다. 빼낸 자료가 영업비밀과 국가 핵심 기술이더라도 어쩔 수 없다는 인식이 있었다고 보인다"고 했다.

이어 "피고인은 삼성전자에서 12년간 D램 연구·개발을 했다. 품질 담당 주재원도 지냈다"며 "경력을 고려할 때 피고인은 국가 핵심 기술을 충분히 식별할 수 있다"고 했다.

다만 재판부는 실형이 아닌 집행 유예를 택했다. 피고인이 빼낸 자료가 모두 회수된 점, 자료가 해외 기업에 흘러 들어가지 않은 측면, 삼성전자가 자료 유출 때문에 심각한 피해를 봤다고 보긴 힘든 부분 등을 감안한 판단이다.

뉴스임팩트 이상우 lee845859@naver.com 이상우의 기사 더보기

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