반도체 공정 이미지.＠출처=연합뉴스

[뉴스임팩트=이상우기자] 삼성전자 반도체 기술을 중국에 빼돌린 것으로 알려진 전 삼성전자 부장 A 씨에 대한 항소심 재판이 내달부터 치러진다.

25일 법조계에 따르면 서울고법 형사8부(김성수 김윤종 이준현 부장판사)는 산업기술보호법 위반 혐의를 심리하는 1차 공판기일을 내달 30일 오전 10시 50분에 연다. 피고인은 A 씨를 포함해 5명이다.

검찰은 피고인들을 2023년과 지난해 재판에 넘겼다. 검찰에 의하면 A 씨는 국가 핵심 기술인 삼성전자 18나노 D램 반도체 공정 정보를 중국 기업 창신메모리테크놀로지(CXMT)에 유출했다.

1나노는 10억분의 1m다. 18나노 D램은 반도체 내부 회로 전선 두께가 18나노라는 뜻이다. 반도체는 전선 두께가 얇을수록 성능과 집적도가 높아진다. CXMT는 중국 안후이성 허페이시에 본사를 둔 D램 반도체 제조사다. 2016년 5월 설립됐다. 반도체 설계 회사 자오이창신과 허페이시 정부가 공동 출자했다.

지난달 1심 재판부는 A 씨에게 징역 7년과 벌금 2억원을 선고하고 법정 구속했다. 1심 재판부는 A 씨가 삼성전자 자료를 유출해 사용했으며 건전한 경쟁을 저해했다고 했다. 이어 A 씨의 중대 범죄로 삼성전자가 큰 피해를 봤다고 지적했다.

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