수원지법 여주지원 표지.＠뉴스임팩트

[뉴스임팩트=이상우기자] SK하이닉스 반도체 기술을 빼돌린 중국인 직원이 실형 판결을 받자마자 항소했다.

8일 법조계에 따르면 SK하이닉스 직원 A 씨는 지난 7일 산업기술보호법 위반 혐의로 징역 1년 6개월, 벌금 2000만원을 선고받았다. A 씨 측은 선고 당일 담당 재판부인 수원지법 여주지원 형사1부(임대호 부장판사)에 항소장을 제출했다.

중국 국적 보유자인 A 씨는 2013년 SK하이닉스에 입사해 반도체 설계 불량 분석, 중국 기업 거래 상담 직원으로 일했다. 2022년 A 씨는 중국 전자 회사 화웨이로 이직했다.

A 씨는 SK하이닉스를 떠나기 전 반도체 공정 문제 해결책을 담은 자료를 출력했다. 빼낸 자료를 A 씨가 어떤 식으로 썼는지는 기록이 남아 있지 않은 것으로 알려졌다.

SK하이닉스 신고를 받고 사건을 수사한 경찰은 지난 4월 A 씨를 검찰에 구속 송치했다. 한 달 뒤 검찰은 A 씨를 재판에 넘겼다.

선고기일 때 재판부는 A 씨 혐의가 입증됐다며 유죄 판결을 내렸다. 재판부는 A 씨가 SK하이닉스 퇴사 직전 4일간 4000여페이지나 되는 문서를 출력하는 등 기술 유출 정황이 뚜렷하다고 했다. 문서에 포함된 HKMG가 SK하이닉스 영업비밀이자 국가 핵심 기술에 해당한다고도 했다.

HKMG는 하이케이 메탈 케이드(High-K Metal Gate)를 뜻한다. 실리콘 대신 유전율이 높은 물질을 사용해 D램 트랜지스터 전류가 밖으로 새어 나가는 상황을 줄인다. 차세대 반도체 공정 기술로 꼽힌다.

뉴스임팩트 이상우 lee845859@naver.com 이상우의 기사 더보기

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