SK하이닉스 기술 유출한 중국인 직원, 1심서 징역 1년 6월

재판부 "영업비밀·국가핵심기술 HKMG 빼돌린 사실 인정돼"

이상우 승인 2024.11.07 10:41 | 최종 수정 2024.11.07 13:16 의견 0

수원지법 여주지원 청사.@뉴스임팩트

[뉴스임팩트=이상우기자] SK하이닉스 반도체 기술을 빼돌린 중국인 직원이 형사재판에서 실형에 처해졌다.

수원지법 여주지원 형사1부(임대호 부장판사)는 7일 SK하이닉스 직원 A 씨의 산업기술보호법 위반 혐의에 대한 선고기일을 열었다. 재판부는 A 씨에게 징역 1년 6개월, 벌금 2000만원을 선고했다.

중국 국적 보유자인 A 씨는 2013년 SK하이닉스에 입사해 반도체 설계 불량 분석, 중국 기업 거래 상담 직원으로 일했다. 2022년 A 씨는 중국 전자 회사 화웨이로 이직했다.

A 씨는 SK하이닉스를 떠나기 전 반도체 공정 문제 해결책을 담은 자료를 출력했다. 빼낸 자료를 A 씨가 어떤 식으로 썼는지는 기록이 남아 있지 않은 것으로 알려졌다.

SK하이닉스 신고를 받고 사건을 수사한 경찰은 지난 4월 A 씨를 검찰에 구속 송치했다. 한 달 뒤 검찰은 A 씨를 재판에 넘겼다. 지난달 검찰은 A 씨에게 징역 5년, 벌금 3000만원을 구형했다.

선고기일 때 재판부는 "피고인(A 씨)은 SK하이닉스 퇴사 직전 4일간 4000여페이지나 되는 문서를 출력했다. 출력하고 5분 이내 퇴근하면서 쇼핑백, 백팩을 들고 나갔다"며 "문서를 유출했다고 볼 수밖에 없다"고 했다.

재판부는 "피고인이 출력한 문서엔 대외비 표시가 있다. 반도체 전문 지식을 지닌 피고인은 자신이 문서를 빼낼 경우 SK하이닉스가 입을 피해를 충분히 알 수 있었다"며 "문서에 포함된 HKMG는 SK하이닉스 영업비밀이자 국가 핵심 기술에 해당한다"고 했다.

HKMG는 하이케이 메탈 케이드(High-K Metal Gate)를 뜻한다. 실리콘 대신 유전율이 높은 물질을 사용해 D램 트랜지스터 전류가 밖으로 새어 나가는 상황을 줄인다. 차세대 반도체 공정 기술로 꼽힌다.

재판부는 "피고인은 공부 목적, 업무 인수인계 의도에서 문서를 출력했다고 주장한다. 하지만 SK하이닉스 직원들은 피고인에게 업무 인수인계를 받지 않았다고 했다"며 "퇴사 4일 전에 다 읽지도 못 할 4000여페이지 문서를 출력하는 건 공부를 위한 행동으로 보기 어렵다"고 했다.

다만 재판부는 "피고인이 SK하이닉스 영업비밀을 화웨이에서 어떻게 활용했는지 불분명하다. SK하이닉스가 입은 피해도 아직 명확하진 않다"며 검찰 구형보다 가벼운 형을 선고했다.

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